NDLTD logo NDLTD Union Catalog and Global ETD Search
Back to results

University of Tartu

Conduction mechanisms in thin atomic layer deposited films containing TiO2

Jõgi, Indrek
dc:date.issued2007

Author and committee

dc:creator, dc:contributor.*
Author
  • Jõgi, Indrek

Identifiers

dc:identifier.*
Identifier
hdl:10062/3590
OAI identifier oai:identifier
oai:dspace.ut.ee:10062/3590

Chain of custody

source
Harvested from
University of Tartu
Base URL
dspace.ut.ee/oai/request
Last updated
2026-07-24
Source record
OAI-PMH GetRecord
related terms
citation

Jõgi, Indrek. Conduction mechanisms in thin atomic layer deposited films containing TiO2. 2007.

More from University of Tartu

  1. The phonetic variation of plosives in Estonian Ermus, Liis 2024
  2. Tahteavaldus tsiviilõiguses Hallik, Liis 2005
  3. Kirjastajate ja kriitikatoimetajate roll eesti algupärase ilukirjanduse toomisel eesti kirjandusväljale aastatel 2001 ja 2002 Kõnno, Mare-Mai 2005