Abstract
dc:description.abstractIn heutigen sub-100nm CMOS Systemen sind Leckströme von hoher Bedeutung. Diese können auf Transistorebene langsam aber genau (BSIM oder PSP) und auf der Gatter-Ebene schneller aber unter Vernachlässigung wichtiger Parameter (Liberty) vorhergesagt werden. In dieser Arbeit werden Modelle auf RT Ebene entwickelt, die schneller als bisherige Gatter Modelle aber nahezu so genau wie Transistormodelle sind. Dafür wird eine Modellhierarchie von einfachen Transistorbeschreibungen über Gattermodelle bis hin zu RT Soft Makros entwickelt, in der alle wesentlichen Parameter entweder zur nächsten Ebene durchgereicht (und sind dann bis hin zur Systemebene verfügbar) oder, wo möglich, implizit in die Modelle integriert werden. Diese Modelle sind millionenfach schneller als SPICE aber innerhalb von 3.6% - 6.9% Standardabweichung für eine weite Spanne an Temperaturen, Betriebsspannungen und Prozessvariationen.
Degree
thesis:*- Level thesis:degree_level
- thesis.doctoral
- Grantor dc:publisher
- Universität Oldenburg
- Year
- 2009
Author and committee
dc:creator, dc:contributor.*- Author dc:creator
-
- Helms, Domenik
Subjects
dc:subject × 1Identifiers
dc:identifier.*- Repository record source_url
- http://oops.uni-oldenburg.de/915
- OAI identifier oai:identifier
- oai:oops.uni-oldenburg.de:915