Interferenzlithographie mit hochaufbauenden Resistsystemen

Im Rahmen der Arbeit wurden hochaufbauende Resistsysteme (AZ9260, SU-8) auf ihre Eignung für Interferenzlithographie untersucht. Es wurden Photoresistsimulationen durchgeführt und anschließend Mikrostrukturen mit großen Aspektverhältnissen hergestellt. Dabei konnten erstmalig Mikrostrukturen mit Abmessungen im Bereich von 10 bis 100 Mikrometeren mittels Interferenzlithographie gefertigt werden. Zudem wurden Abformwerkzeuge mittels Galvanik und Soft-Embossing hergestellt bevor abschließend die Abformbarkeit der Mikrostrukturen in thermoplastische Kunststoffe nachgewiesen wurde.

Author dc:creator

• Mick, Jörg

Contributors dc:contributor

• Menz, Wolfgang

• Photoresistsimulation, SU-8, AZ9260, Aspektverhältnis, Soft-Embossing
• interferencelithography, resistsimulation, SU-8, AZ9260, replication

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