{"id":{"repo_id":"freiburg-diss","oai_identifier":"oai:freidok.uni-freiburg.de:2414"},"canonical_url":"https://search.dev.ndltd.org/etd/freiburg-diss/oai:freidok.uni-freiburg.de:2414","repository":{"repo_id":"freiburg-diss","name":"University of Freiburg","base_url":"https://freidok.uni-freiburg.de/oai/oai2.php"},"display":{"title":"Interferenzlithographie mit hochaufbauenden Resistsystemen","abstract":"Im Rahmen der Arbeit wurden hochaufbauende Resistsysteme (AZ9260, SU-8) auf ihre Eignung für Interferenzlithographie untersucht. Es wurden Photoresistsimulationen durchgeführt und anschließend Mikrostrukturen mit großen Aspektverhältnissen hergestellt. Dabei konnten erstmalig Mikrostrukturen mit Abmessungen im Bereich von 10 bis 100 Mikrometeren mittels Interferenzlithographie gefertigt werden. Zudem wurden Abformwerkzeuge mittels Galvanik und Soft-Embossing hergestellt bevor abschließend die Abformbarkeit der Mikrostrukturen in thermoplastische Kunststoffe nachgewiesen wurde.","abstract_html":"Im Rahmen der Arbeit wurden hochaufbauende Resistsysteme (AZ9260, SU-8) auf ihre Eignung für Interferenzlithographie untersucht. Es wurden Photoresistsimulationen durchgeführt und anschließend Mikrostrukturen mit großen Aspektverhältnissen hergestellt. Dabei konnten erstmalig Mikrostrukturen mit Abmessungen im Bereich von 10 bis 100 Mikrometeren mittels Interferenzlithographie gefertigt werden. 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The suitability of both resist systems for interference lithography was shown, including the possibilities, difficulties and limitations of each photoresist system. <br>With these new approaches microstructures with structural dimensions in the range between 10µm and 100µm or more can be fabricated by interference lithography. Both photoresist systems have shown a significant advancement in achievable aspect ratios, especially SU-8 offers new perspectives in this respect. Furthermore it was possible to generate rounded microstructures with concave sidewall profiles in SU-8. <br>Different types of microstructures have been introduced. Such structures can be used for daylighting as well as display applications. Additionally a complete process chain for cost-effective micro replication processes has been described, including electroforming, soft-lithography and replication into polymers."]},{"key":"dc:format.medium","label":"Dc Format Medium","values":["application/pdf"]},{"key":"dc:title","label":"Title","values":["Interferenzlithographie mit hochaufbauenden Resistsystemen","Interference lithography with thick-film photoresists"]}]}],"canonical_facts":{"dc:contributor":["Menz, Wolfgang"],"dc:creator":["Mick, Jörg"],"dc:description.abstract":["Im Rahmen der Arbeit wurden hochaufbauende Resistsysteme (AZ9260, SU-8) auf ihre Eignung für Interferenzlithographie untersucht. Es wurden Photoresistsimulationen durchgeführt und anschließend Mikrostrukturen mit großen Aspektverhältnissen hergestellt. Dabei konnten erstmalig Mikrostrukturen mit Abmessungen im Bereich von 10 bis 100 Mikrometeren mittels Interferenzlithographie gefertigt werden. 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