Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Erinevates toodetes kasutatavate materjalide eluea pikendamine ja koguste vähendamine on kaks tähtsat ülesannet, mille lahendamine võimaldab muuta väiksemaks ühiskonna ökoloogilist jalajälge. Kuna materjalid korrodeeruvad peaaegu kõigis keskkondades, siis selle tulemusena nende vastupidavus ning kasutusaeg vähenevad. See omakorda muudab lihtsalt kättesaadavate ja odavate materjalide kasutamise mõnede rakenduste puhul võimatuks. Üheks võimaluseks selliste materjalide eluiga pikendada ja neid seejuures ikkagi korrodeerivate keskkondades kasutada, on nende kaitsmine vastupidavamast materjalist katetega, mis isoleerivad kaitstavad materjalid neid hävitavast keskkonnast. Tänu tänapäevaste kõrgtehnoloogiliste seadmete üha keerukamale ehitusele ja detailide rangematele täpsusnõuetele on nende kaitsekatetega katmine traditsiooniliste meetoditega järjest keerulisem. Sellest tulenevalt on kasvanud vajadus uute senisest täpsemate tehnoloogiate järele. Käesolevas töös uuriti üliõhukeste kaitsekatete valmistamise võimalusi, kasutades selleks aatomkihtsadestamise meetodit, mis võimaldab kaitsekihi paksust ülitäpselt kontrollida. Uuringute käigus pandi kokku ja katsetati seadet, millega on võimalik sadestada kaitsekatteid ballooni-tüüpi kinniste anumate sisepinnale. Et arendada vastavaid sadestamismetoodeid ja parandada kaitsekatete omadusi, töötati välja uudsed lahendused TiO2 ja Al2O3 aatomkihtsadestamiseks tehnoloogilistes protsessides, milles lähteainesüsteemideks on vastavalt TiCl4-O3 ja AlCl3-O3. Töö käigus uuriti eelnimetatud meetoditega sadestatud kaitsekatete füüsikalisi ja keemilisi omadusi ning demontreeriti nende häid kaitseomadusi laialt kasutatava roostevaba terase pinnal.

Author

• Aarik, Lauri

• aatomkihtsadestamine
• õhukesed kiled
• oksiidkiled
• atomic layer deposition
• thin films
• oxide films

Identifier

hdl:10062/58318

OAI identifier oai:identifier

oai:dspace.ut.ee:10062/58318