Películas delgadas basadas en TIO2 y MOx/TIO2 con aplicaciones fotoelectroquímicas y ópticas

Durante los últimos años, la preparación de materiales en forma de película delgada ha sido objeto de un gran número de investigaciones debido a su enorme interés tecnológico. Los enormes avances de la última década hacen cada vez más complicado satisfacer las demandas que exige el diseño de nuevos dispositivos. Por ejemp lo, el considerable grado de miniaturización que están adquiriendo los dispositivos de estado sólido, especialmente en campos como la microelectrónica, comunicaciones y almacenamiento de datos, implican el control de la estructura de películas delgadas en escalas de tamaño muy pequeñas, en todo caso por debajo de la micra. Es evidente que tal control puede obtenerse solamente a partir de un conocimiento profundo de los procesos involucrados en el crecimiento de las películas delgadas. Estos procesos son los que finalmente determinan su estructura, morfología y los que, a su vez, condicionan las propiedades de las capas. Asimismo, otros aspectos tales como la interacción de la película con el sustrato, las modificaciones sufridas por la capa debido a su exposición a la atmósfera, su estabilidad térmica, el nivel de impurezas que incorporan o el coste del proceso de fabricación, son aspectos que determinarán las posibles aplicaciones del material.

Author dc:creator

• Gracia Torres, Francisco

Advisors dc:contributor.advisor

• Rodríguez González-Elipe, Agustín
• Holgado Vázquez, Juan Pedro

Statement dc:rights

• Atribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 España

Licence dc:rights.uri

• http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/

Language dc:language.iso

spa

Handle dc:identifier.uri

http://hdl.handle.net/11441/15668

OAI identifier oai:identifier

oai:idus.us.es:11441/15668