Nouvelle méthode pour un moniteur d'épaisseur optique et d'indice de réfraction complexe
La fabrication de couches minces ayant certaines propriétés optiques demande une certaine précision dans leur caractérisation. La difficulté réside en une détermination plus précise de paramètres tels que l’indice de réfraction complexe et l’épaisseur optique. Les systèmes existants actuellement sur le marché pour mesurer l’épaisseur au cours de la déposition n’arrivent pas tous à mesurer l’épaisseur optique et encore moins l’indice de réfraction complexe. Certaines méthodes comme l’ellipsométrie se servent des progrès de l’informatique (vitesse de calculs des ordinateurs, logiciels de programmation), de la polarisation de la lumière et des propriétés de réflexion (ou de transmission) de la lumière sur les couches minces pour trouver l’épaisseur optique. Dans notre département, nous utilisons l’ellipsométrie de transmission et de réflexion pour mesurer l’épaisseur optique et l’indice de réfraction complexe mais seulement après la déposition. Très souvent comme dans notre département, on utilise le cristal de quartz pour mesurer l’épaisseur au cours de la déposition mais comme nous le montrons à travers une étude expérimentale, il ne permet pas de mesurer l’épaisseur optique. Nous présentons ici un nouveau système de moniteur d’épaisseur optique et d’indice de réfraction complexe. Ce nouveau système utilise l’épaisseur lue par le cristal de quartz et la réflexion de l’échantillon pour déterminer à l’aide d’un programme informatique l’épaisseur optique réelle et l’indice de réfraction complexe d’une couche mince au cours de la déposition en temps réel.
Couches minces, Propriétés optiques, Réfractométrie, Ellipsométrie
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