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Certaines méthodes comme l’ellipsométrie se servent des progrès de l’informatique (vitesse de calculs des ordinateurs, logiciels de programmation), de la polarisation de la lumière et des propriétés de réflexion (ou de transmission) de la lumière sur les couches minces pour trouver l’épaisseur optique. Dans notre département, nous utilisons l’ellipsométrie de transmission et de réflexion pour mesurer l’épaisseur optique et l’indice de réfraction complexe mais seulement après la déposition. Très souvent comme dans notre département, on utilise le cristal de quartz pour mesurer l’épaisseur au cours de la déposition mais comme nous le montrons à travers une étude expérimentale, il ne permet pas de mesurer l’épaisseur optique. Nous présentons ici un nouveau système de moniteur d’épaisseur optique et d’indice de réfraction complexe. 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