ingegnerizzazione di processi di deposizione chimica da fase vapore e da soluzione per materiali funzionali avanzati
type: CreativeWork
description: ttualmente, l'ottimizzazione e il perfezionamento dei processi di produzione dei materiali stanno acquisendo un'importanza sempre maggiore nella continua ricerca di materiali innovativi e tecnologie all'avanguardia, in cui la micro e nanofabbricazione dei materiali costituisce la base per le innovazioni emergenti. Il principale obiettivo di questa tesi di dottorato è fornire un quadro per una comprensione fondamentale delle regole che guidano le interazioni tra precursori e materiali nei diversi processi di deposizione. Il progetto è incentrato sull'ingegnerizzazione dei processi di deposizione in fase vapore e in soluzione, come la deposizione chimica in fase vapore (MOCVD), la “spatial atomic layer deposition” (SALD) e la deposizione sol-gel. Le tecniche di deposizione in fase vapore, che offrono un controllo preciso sulla formazione di film sottili, contribuiscono allo sviluppo di film funzionali per la fabbricazione di dispositivi avanzati. I numerosi vantaggi di queste tecniche includono costi ridotti, versatilità nel ricoprimento di geometrie complesse, la capacità di creare sistemi chimicamente complessi e la facile scalabilità industriale. Al contrario, i metodi in soluzione, come il metodo sol-gel, forniscono un modo per creare nanostrutture complesse adatte a funzionalità specifiche. L'approccio sol-gel ha diversi vantaggi, in particolare la capacità di modificare la stechiometria dei precursori, il solvente e le condizioni di processo al fine di regolare la composizione del materiale, la porosità, l'area superficiale e altre caratteristiche. La presente tesi ha comportato un'analisi approfondita di una vasta gamma di classi di materiali, tra cui ossidi ternari piezoelettrici senza piombo (LiNbO3, K1-xNaxNbO3), ossidi binari di metalli di transizione (Cu2O, VO2), fluoruri ternari (BaMgF4, CsCaF3) e fluoruri binari alcalino-terrosi (BaF2, MgF2). Gli obiettivi principali erano migliorare la nostra comprensione delle interazioni tra precursori e mater…
abstract: ttualmente, l'ottimizzazione e il perfezionamento dei processi di produzione dei materiali stanno acquisendo un'importanza sempre maggiore nella continua ricerca di materiali innovativi e tecnologie all'avanguardia, in cui la micro e nanofabbricazione dei materiali costituisce la base per le innovazioni emergenti. Il principale obiettivo di questa tesi di dottorato è fornire un quadro per una comprensione fondamentale delle regole che guidano le interazioni tra precursori e materiali nei diversi processi di deposizione. Il progetto è incentrato sull'ingegnerizzazione dei processi di deposizione in fase vapore e in soluzione, come la deposizione chimica in fase vapore (MOCVD), la “spatial atomic layer deposition” (SALD) e la deposizione sol-gel. Le tecniche di deposizione in fase vapore, che offrono un controllo preciso sulla formazione di film sottili, contribuiscono allo sviluppo di film funzionali per la fabbricazione di dispositivi avanzati. I numerosi vantaggi di queste tecniche includono costi ridotti, versatilità nel ricoprimento di geometrie complesse, la capacità di creare sistemi chimicamente complessi e la facile scalabilità industriale. Al contrario, i metodi in soluzione, come il metodo sol-gel, forniscono un modo per creare nanostrutture complesse adatte a funzionalità specifiche. L'approccio sol-gel ha diversi vantaggi, in particolare la capacità di modificare la stechiometria dei precursori, il solvente e le condizioni di processo al fine di regolare la composizione del materiale, la porosità, l'area superficiale e altre caratteristiche. La presente tesi ha comportato un'analisi approfondita di una vasta gamma di classi di materiali, tra cui ossidi ternari piezoelettrici senza piombo (LiNbO3, K1-xNaxNbO3), ossidi binari di metalli di transizione (Cu2O, VO2), fluoruri ternari (BaMgF4, CsCaF3) e fluoruri binari alcalino-terrosi (BaF2, MgF2). Gli obiettivi principali erano migliorare la nostra comprensione delle interazioni tra precursori e mater…
author: LO PRESTI, Francesca
language: ita
keywords: CVD, sol-gel
date published: 2023-12-13
date modified: 2026-07-24T01:34:51Z
provider: Università degli Studi di Catania
publisher: Networked Digital Library of Theses and Dissertations
type: WebPage
source organization: Università degli studi di Catania

PropertyValue
property ID: Handle
value: https://hdl.handle.net/20.500.11769/597700