Metodi avanzati di Laser Annealing, dai materiali complessi al trasporto su nanoscala
type: CreativeWork
description: È fondamentale prevedere come l'interazione con i laser laser modificherà i materiali e le strutture nelle applicazioni nanoelettroniche e nella produzione di dispositivi. La mancanza di simulatori di Laser Annealing (LA) accurati e completi (compresa la calibrazione del materiale) negli strumenti commerciali di Technology Computer Aided Design (TCAD) è attualmente l'ostacolo principale all'ampia applicazione di LA nella micro e nanoelettronica. Il LA, in ogni caso, induce una cinetica di non equilibrio nei materiali irradiati e le difficoltà nel controllo del processo superano i benefici di questo fenomeno di non equilibrio. Molti di questi eventi di non equilibrio richiedono approcci di modellazione atomistica come la dinamica molecolare o le simulazioni Monte Carlo cinetiche che non possono sempre descrivere la scala temporale completa del processo (inclusa la fase di spegnimento e il tempo da impulso a impulso in modalità multi-impulso). Come risultato, la modellazione al continuo, insieme a una simulazione atomistica più accurata risultati, è fondamentale per la previsione e la gestione del processo di LA. Il nostro studio si concentrerà sullo stato dell'arte attuale nella modellazione del continuo di Laser Annealing (LA), sfruttando le principali caratteristiche contenute nel core di LIAB, uno strumento che abbiamo sviluppato in collaborazione con LASSE, azienda leader nello sviluppo di tecnologie di LA. Utilizzando questo metodo, possiamo prevedere l' evoluzione ultrarapida dei campi medi e l'evoluzione atomica dei sistemi elaborati. La tesi si concentrerà principalmente sulla modellazione LA di strutture e materiali relativi alla nanoelettronica. In ogni caso, gli approcci di modellazione sono spesso applicabili a una varietà di applicazioni tecniche relative a LA, il che è un grande sviluppo. Il primo capitolo discute le simulazioni all'avanguardia eseguite in LIAB, comprese le transizioni di fase, che sono un fattore trainante dietroil LA, in pa…
abstract: È fondamentale prevedere come l'interazione con i laser laser modificherà i materiali e le strutture nelle applicazioni nanoelettroniche e nella produzione di dispositivi. La mancanza di simulatori di Laser Annealing (LA) accurati e completi (compresa la calibrazione del materiale) negli strumenti commerciali di Technology Computer Aided Design (TCAD) è attualmente l'ostacolo principale all'ampia applicazione di LA nella micro e nanoelettronica. Il LA, in ogni caso, induce una cinetica di non equilibrio nei materiali irradiati e le difficoltà nel controllo del processo superano i benefici di questo fenomeno di non equilibrio. Molti di questi eventi di non equilibrio richiedono approcci di modellazione atomistica come la dinamica molecolare o le simulazioni Monte Carlo cinetiche che non possono sempre descrivere la scala temporale completa del processo (inclusa la fase di spegnimento e il tempo da impulso a impulso in modalità multi-impulso). Come risultato, la modellazione al continuo, insieme a una simulazione atomistica più accurata risultati, è fondamentale per la previsione e la gestione del processo di LA. Il nostro studio si concentrerà sullo stato dell'arte attuale nella modellazione del continuo di Laser Annealing (LA), sfruttando le principali caratteristiche contenute nel core di LIAB, uno strumento che abbiamo sviluppato in collaborazione con LASSE, azienda leader nello sviluppo di tecnologie di LA. Utilizzando questo metodo, possiamo prevedere l' evoluzione ultrarapida dei campi medi e l'evoluzione atomica dei sistemi elaborati. La tesi si concentrerà principalmente sulla modellazione LA di strutture e materiali relativi alla nanoelettronica. In ogni caso, gli approcci di modellazione sono spesso applicabili a una varietà di applicazioni tecniche relative a LA, il che è un grande sviluppo. Il primo capitolo discute le simulazioni all'avanguardia eseguite in LIAB, comprese le transizioni di fase, che sono un fattore trainante dietroil LA, in pa…
author: SCIUTO, ALBERTO
language: ita
keywords: Continuum simulations, Laser Annealing, Laser, Heat transport, Ultrafast events, Nanoscale Simulations, Simulazioni al continuo, Annealing Laser, Laser, Trasporto di Calore, Eventi ultraveloci, Simulazioni su scala nanometrica
date published: 2022-12-15
date modified: 2026-07-24T01:34:53Z
provider: Università degli Studi di Catania
publisher: Networked Digital Library of Theses and Dissertations
type: WebPage
source organization: Università degli studi di Catania

PropertyValue
property ID: Handle
value: https://hdl.handle.net/20.500.11769/581589