{"id":{"repo_id":"bielefeld","oai_identifier":"oai:pub.uni-bielefeld.de:2302600"},"canonical_url":"https://search.dev.ndltd.org/etd/bielefeld/oai:pub.uni-bielefeld.de:2302600","repository":{"repo_id":"bielefeld","name":"Universität Bielefeld","base_url":"https://pub.uni-bielefeld.de/oai"},"display":{"title":"Entwicklung und Charakterisierung von La/B4C-Multischichtsystemen als Röntgenspiegel im Energiebereich 100 - 200 eV","abstract":"Im Mittelpunkt dieser Arbeit stehen die Entwicklung und Charakterisierung von La/B4C-Multischichtsystemen. Dazu wurden diese Materialien für die verwendete Elektronenstrahlverdampfung evaluiert und charakterisiert. Für die Überwachung des Aufdampfprozesses standen zwei separate In-situ Schichtdickenkontrollen zur Verfügung. Für periodische Multischichtsysteme wurde die für Mo/Si-Multischichten genutzte Röntgenreflektometrie übernommen. Aufgrund des Wechsels von Mo/Si auf La/B4C musste materialbedingt die Steuerung des Verdampfungsprozesses weiterentwickelt und optimiert werden. Für die Herstellung aperiodischer La/B4C-Multischichtsysteme wurde zusätzlich ein In-situ Ellipsometer in Betrieb genommen. Des Weiteren soll eine Senkung der Grenzflächenrauigkeiten und damit einhergehende Erhöhung der Reflektivitäten von La/B4C-Multischichten durch das Polieren mit beschleunigten Ionen der einzelnen Schichten während der Herstellung untersucht werden. Die hergestellten Multischichten werden hinsichtlich Rauigkeiten, Reflektivitäten und spektraler Bandbreite charakterisiert und ausgewertet.","abstract_html":"Im Mittelpunkt dieser Arbeit stehen die Entwicklung und Charakterisierung von La/B4C-Multischichtsystemen. Dazu wurden diese Materialien für die verwendete Elektronenstrahlverdampfung evaluiert und charakterisiert. 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