VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (my-c-Si:H) : Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften

Hapke, Peter

Back to results

RWTH Aachen University

VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (my-c-Si:H) : Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften

dc:creator Hapke, Peter

dc:date1995

Author and committee

dc:creator, dc:contributor.*

Author dc:creator: Hapke, Peter

Rights

dc:rights

Statement dc:rights: info:eu-repo/semantics/closedAccess
Language dc:language: ger

Identifiers

dc:identifier.*

Identifier: https://publications.rwth-aachen.de/search?p=id:%22RWTH-CONV-115618%22
OAI record oai:identifier: https://publications.rwth-aachen.de/oai2d?verb=GetRecord&metadataPrefix=oai_dc&identifier=oai%3Apublications.rwth-aachen.de%3A53448

Chain of custody

source

Harvested from: RWTH Aachen University
Base URL: publications.rwth-aachen.de/oai2d
Last updated: 2026-07-30
Source record: OAI-PMH GetRecord

related terms

aachen
1995

citation

Hapke, Peter. VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (my-c-Si:H) : Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften. 1995. https://publications.rwth-aachen.de/record/53448

VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (my-c-Si:H) : Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften

Author and committee

Rights

Identifiers

Chain of custody

More from RWTH Aachen University