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Results

Showing 1 to 20 of 20 for “"Sputtern"”.

  1. Strukturbildung und Prozessstabilisierung beim reaktiven Sputtern

    Reactive sputtering is an important deposition technique for oxides or nitrides employed e.g. in optical coatings. The process is characterized by high deposition rates and compact films as a result of the kinetic energy input from the glow discharge. Nevertheless, this deposition technique suffers …

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  2. Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern : PVD-Beschichtung von textilen Flächen

    … mit den PVD-Technologien reaktives Magnetron-Sputtern und reaktives Vakuumbogen-Verdampfen. Basis für die Realisierung der experimentellen Untersuchungen sind sowohl vorhandene industrielle PVD-Beschichtungsanlagen, die im Batchbetrieb arbeiten, als auch Rollcoater als Bindeglied zwischen …

    qucosa-diss

  3. Properties of the CuGaSe2 and CuInSe2 (001) Surface

    … Entwicklung eines geeigneten Verfahrens mit Ar+ Sputtern und Annealen kombiniert mit Decappen ermöglichte die Präparation von sauberen und gut geordneten Oberflächen. In Abhängigkeit von der Präparation und der Zusammensetzung der Schichten wurden unterschiedliche Oberflächenstrukturen …

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  4. Untersuchungen zu Schichtwachstum und Grenzflächen an Ta-basierten Dünnschichten mittels XPS

    … technologienahen Bedingungen mittels Magnetron-Sputtern abgeschieden. Die Untersuchungen erfolgen hauptsächlich mit winkelaufgelöster röntgenstrahlungsangeregter Photoelektronenspektroskopie (ARXPS). Die Analysen erfolgen in situ, ohne Unterbrechung des Ultrahochvakuums, um die Deposite vor …

    qucosa-diss

  5. Theoretische Untersuchung der thermischen Stabilität und morphologischer Umwandlungen in nanoskaligen Multischichten

    … versucht, den Riesenmagnetwiderstand der durch Sputtern abgeschiedenen Schichten zu erhöhen. In entmischenden System Co/Cu wird bei Einzelschichtdicken von 2nm eine Erhöhung des Riesenmagnetwiderstandes gemessen. Allerdings verringert sich der Widerstand bei höheren Temperaturen drastisch. Die …

    qucosa-diss

  6. Umfärbung von dünnen Wolframoxid-Schichten mit Platin-Belegung durch Gaseinwirkung

    … Auf den WO3-Schichten wurden mittels DC-Sputtern Platin-Belegungen im Bereich von Inseln bis zu 20nm Schichtdicke aufgebracht. Das Gesamtsystem dieser Schichten wurde durch feuchte Neutralgase mit einem Wasserstoff- bzw. Sauerstoff-Anteil (hauptsächlich <5 bzw. <10Vol.%) ein- bzw. …

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  7. Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie: Thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials

    … Im Rahmen der Arbeit wurden mittels Magnetron-Sputtern neben Ta- und TaN-Einfachschichten sowie Ta-TaN-Mehrfachschichten auch Ta-Si-N-Einfachschichten jeweils mit und ohne Cu-Metallisierung sowohl auf blanke als auch auf thermisch oxidierte Si-Scheiben abgeschieden. Die Dicken der …

    qucosa-diss

  8. Growth, structure and magnetic properties of magnetron sputtered FePt thin films

    The L10 FePt phase belongs to the most promising hard ferromagnetic materials for high density recording media. The main challenges for thin FePt films are: (i) to lower the process temperature for the transition from the soft magnetic A1 to the hard magnetic L10 phase, (ii) to realize c-axes …

    qucosa-diss

  9. Verfahrensentwicklungen beim Mehrkomponenten-Spritzgießen zur Herstellung von keramischen und metallischen Mikrobauteilen

    … eignen sich Beschichtungsverfahren wie z.B. Sputtern oder stromloses Beschichten. Auch die Herstellung der Primärstrukturen aus leitfähigen Polymeren hat sich bewährt. <br>Mit zunehmenden Aspektverhältnissen führt eine gleichförmige elektrisch leitfähige Oberfläche jedoch zu erheblichen …

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  10. Untersuchung des reaktiven Sputterprozesses zur Herstellung von aluminiumdotierten Zinkoxid-Schichten für Silizium-Dünnschichtsolarzellen

    This thesis addresses the development of aluminum doped zinc oxide (ZnO:Al) films by reactive sputter deposition. The study focuses on the relation between deposition conditions and the resulting electrical, optical and structural film properties. The structure of the ZnO:Al films strongly affects …

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  11. An Investigation of Target Poisoning during Reactive Magnetron Sputtering

    Objective of the present work is a broad investigation of the so called &quot;target poisoning&quot; during magnetron deposition of TiN in an Ar/N2 atmosphere. Investigations include realtime in-situ ion beam analysis of nitrogen incorporation at the Ti sputter target during the deposition process …

    qucosa-diss

  12. Process property relations in reactively sputtered transition metal compounds

    In the current thesis the relations between the process parameters and the properties of transition metal compound thin films grown by reactive magnetron sputtering techniques are investigated. In the first part, the effect of energetic species, which are generated by backscattering of plasma ions …

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  13. Herstellung von dünnen Elektrolytschichten mittels Laserablation und Kathodenzerstäubung für Hochtemperatur-Brennstoffzellen

    Solid oxide fuel cells (SOFCs) are presently operated at temperatures between 800 and 1000°C. Lowering the operation temperature to 600°C at unchanged power density would increase the durability of the fuel cell stack. Alternative electrolyte materials with a higher electric conductivity and …

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  14. Sputter deposition of Iridium and Iridium Oxide for stimulation electrode coatings

    Stimulation electrodes are used to electrically excite nerve cells, for instance in heart pace makers. In order to evoke an action potential in neuronal cells, a certain amount of charge needs to be delivered to the tissue. For safe stimulation, the electrode has to be capable of delivering this …

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  15. Synthesis of silicon nanocrystal memories by sputter deposition

    In Silizium-Nanokristall-Speichern werden im Gate-Oxid eines Feldeffekttransistors eingebettete Silizium Nanokristalle genutzt, um Elektronen lokal zu speichern. Die gespeicherte Ladung bestimmt dann den Zustand der Speicherzelle. Ein wichtiger Aspekt in der Technologie dieser Speicher ist die …

    qucosa-diss

  16. Structural and optical properties of copper- and nickel-oxynitride films

    In this work, the structural, optical and electrical properties of copper- and nickel-oxynitride films have been investigated. The films have been deposited onto glass and silicon substrates by means of reactive dc sputtering from a metallic target in an argon/oxygen and nitrogen gas mixture. …

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  17. Untersuchungen zum Betriebsverhalten temperaturregelbarer OFW-Gassensoren

    Generally Surface Acoustic Wave (SAW) gas sensors are based on piezoelectric crystals like silicon oxide or lithium niobate and are often manufactured with a complicated technology. In order to reach high temperature stability, special crystal cuts are used. These cuts often show a small …

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  18. Lichtstreuende Oberflächen, Schichten und Schichtsysteme zur Verbesserung der Lichteinkopplung in Silizium-Dünnschichtsolarzellen

    This doctoral thesis addresses the light yield and the optical loss mechanisms in thin-film solar cells based on amorphous (a-Si:H) and microcrystalline (µc-Si:H) silicon. The study focuses on the optimization of the aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al) front contact, which has to combine low series …

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  19. Untersuchung gasochrom schaltender Wolframoxide

    Analysis of gasochromic switching tungsten oxide layers This thesis describes the properties of reactively dc-magnetron sputtered tungsten oxide (WOx) films. The films are gasochromically switched with diluted hydrogen (H2) in argon or nitrogen, with a very thin surface film of palladium (Pd) as …

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