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Results

Showing 1 to 11 of 11 for “"Sputtern"”.

  1. Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern : PVD-Beschichtung von textilen Flächen

    … mit den PVD-Technologien reaktives Magnetron-Sputtern und reaktives Vakuumbogen-Verdampfen. Basis für die Realisierung der experimentellen Untersuchungen sind sowohl vorhandene industrielle PVD-Beschichtungsanlagen, die im Batchbetrieb arbeiten, als auch Rollcoater als Bindeglied zwischen …

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  2. Properties of the CuGaSe2 and CuInSe2 (001) Surface

    … Entwicklung eines geeigneten Verfahrens mit Ar+ Sputtern und Annealen kombiniert mit Decappen ermöglichte die Präparation von sauberen und gut geordneten Oberflächen. In Abhängigkeit von der Präparation und der Zusammensetzung der Schichten wurden unterschiedliche Oberflächenstrukturen …

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  3. Untersuchungen zu Schichtwachstum und Grenzflächen an Ta-basierten Dünnschichten mittels XPS

    … technologienahen Bedingungen mittels Magnetron-Sputtern abgeschieden. Die Untersuchungen erfolgen hauptsächlich mit winkelaufgelöster röntgenstrahlungsangeregter Photoelektronenspektroskopie (ARXPS). Die Analysen erfolgen in situ, ohne Unterbrechung des Ultrahochvakuums, um die Deposite vor …

    qucosa-diss

  4. Theoretische Untersuchung der thermischen Stabilität und morphologischer Umwandlungen in nanoskaligen Multischichten

    … versucht, den Riesenmagnetwiderstand der durch Sputtern abgeschiedenen Schichten zu erhöhen. In entmischenden System Co/Cu wird bei Einzelschichtdicken von 2nm eine Erhöhung des Riesenmagnetwiderstandes gemessen. Allerdings verringert sich der Widerstand bei höheren Temperaturen drastisch. Die …

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  5. Umfärbung von dünnen Wolframoxid-Schichten mit Platin-Belegung durch Gaseinwirkung

    … Auf den WO3-Schichten wurden mittels DC-Sputtern Platin-Belegungen im Bereich von Inseln bis zu 20nm Schichtdicke aufgebracht. Das Gesamtsystem dieser Schichten wurde durch feuchte Neutralgase mit einem Wasserstoff- bzw. Sauerstoff-Anteil (hauptsächlich <5 bzw. <10Vol.%) ein- bzw. …

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  6. Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie: Thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials

    … Im Rahmen der Arbeit wurden mittels Magnetron-Sputtern neben Ta- und TaN-Einfachschichten sowie Ta-TaN-Mehrfachschichten auch Ta-Si-N-Einfachschichten jeweils mit und ohne Cu-Metallisierung sowohl auf blanke als auch auf thermisch oxidierte Si-Scheiben abgeschieden. Die Dicken der …

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  7. Growth, structure and magnetic properties of magnetron sputtered FePt thin films

    The L10 FePt phase belongs to the most promising hard ferromagnetic materials for high density recording media. The main challenges for thin FePt films are: (i) to lower the process temperature for the transition from the soft magnetic A1 to the hard magnetic L10 phase, (ii) to realize c-axes …

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  8. An Investigation of Target Poisoning during Reactive Magnetron Sputtering

    Objective of the present work is a broad investigation of the so called &quot;target poisoning&quot; during magnetron deposition of TiN in an Ar/N2 atmosphere. Investigations include realtime in-situ ion beam analysis of nitrogen incorporation at the Ti sputter target during the deposition process …

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  9. Verfahrensentwicklungen beim Mehrkomponenten-Spritzgießen zur Herstellung von keramischen und metallischen Mikrobauteilen

    … eignen sich Beschichtungsverfahren wie z.B. Sputtern oder stromloses Beschichten. Auch die Herstellung der Primärstrukturen aus leitfähigen Polymeren hat sich bewährt. <br>Mit zunehmenden Aspektverhältnissen führt eine gleichförmige elektrisch leitfähige Oberfläche jedoch zu erheblichen …

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  10. Synthesis of silicon nanocrystal memories by sputter deposition

    In Silizium-Nanokristall-Speichern werden im Gate-Oxid eines Feldeffekttransistors eingebettete Silizium Nanokristalle genutzt, um Elektronen lokal zu speichern. Die gespeicherte Ladung bestimmt dann den Zustand der Speicherzelle. Ein wichtiger Aspekt in der Technologie dieser Speicher ist die …

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