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Results

Showing 1 to 3 of 3 for “"Gravure plasma"”.

  1. Développement d'un procédé de gravure plasma pour la fabrication de composants photoniques à base d'hétérostructures InP/InGaAsP

    Le but du projet est de développer un procédé de gravure stable et bien intégré dans le processus complet de fabrication de dispositifs photoniques à base d'InP. Le présent document expose le résultat de différents procédés de gravure sur échantillons à base d'InP. La préparation des échantillons …

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  2. Développement d'un procédé pour la réalisation de diodes laser stabilisées en fréquence sans reprise d'épitaxie

    … de photolithographie et finalement de gravure plasma. Le masque de gravure est fait d'un agencement d'oxyde de silicium et de chrome, soient des matériaux volatils au chlore gazeux lors de la gravure sèche à haute température. Le tout est gravé 1,5 [micro]m de profondeur, jusqu'à la …

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  3. Procédés de gravure à faible endommagement des surfaces : application à la gravure SiN sur AlGaN/GaN pour les transistors à haute mobilité électronique

    … est de développer et d’optimiser des procédés de gravure plasma de la couche cap SiN et des procédés humides post-gravure permettant de préserver l’intégrité de la couche AlGaN. Dans cette étude, deux approches de gravure du SiN ont été évaluées : 1) l’approche traditionnelle utilisant des plasmas …

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