Charakterisierung silylterminierter Siliziumdioxidoberflächen mit thermischer Desorptionsspektroskopie und oberflächensensitiven Analysenmethoden

Im Rahmen dieser Arbeit wurden Siliziumdioxidoberflächen funktionalisiert. Die thermische sowie die mechanische und chemische Stabilität der Terminierung mit verschiedenen Alkylsilanen wurde untersucht. Durch eine Kondensationsreaktion von Monochlorsilanderivaten mit Silanolgruppen an der Oberfläche wurden die Gruppen kovalent gebunden. Als Substrat dienten nasschemisch oxidierte Siliziumwafer. Die Reaktionen wurden in Lösung und bei Raumtemperatur durchgeführt. Innerhalb weniger Minuten war die Reaktion abgeschlossen. Die Addition von Alkoholen an die Isocyanogruppe der Isocyanopropyldimethylsilylterminierten Oberfläche wurde mit ATR-FTIR-Spektroskopie verfolgt, ebenso die Degradierung der Terminierung in Wasser durch Ultraschallbehandlung. Methylierte Silylgruppen wurden mit Sekundärionenmassenspektrometrie (SIMS) detektiert. Fluorierte Silanderivate wurden mit Photoelektronenspektroskopie (PES) nachgewiesen. Die thermische Desorptionsspektroskopie (TDS) wurde eingesetzt, um die thermische Stabilität der Terminierungen zu ermitteln. Für vier Terminierungen wird ein Desorptionsmechanismus vorgeschlagen. Die trimethylsilylterminierte Oberfläche ist thermisch sehr stabil. Die Benetzbarkeit der verschieden präparierten Oberflächen wurde mit Kontaktwinkelmessungen verglichen.

Level thesis:degree_level

thesis.doctoral

Grantor dc:publisher

Universität Heidelberg

Year

2004

Author dc:creator

• Schmohl, Andreas

Contributors dc:contributor

• Hess, Peter

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http://www.ub.uni-heidelberg.de/archiv/4862

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