Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi 2 /Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiO X -Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme

Hacke, Marcus

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RWTH Aachen University

Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi 2 /Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiO X -Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme

dc:creator Hacke, Marcus

dc:date1996

Author and committee

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Author dc:creator: Hacke, Marcus

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Statement dc:rights: info:eu-repo/semantics/openAccess
Language dc:language: ger

Identifiers

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Identifier: https://publications.rwth-aachen.de/search?p=id:%22RWTH-CONV-123045%22
OAI identifier oai:identifier: oai:publications.rwth-aachen.de:61376

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Last updated: 2026-07-30
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1996

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Hacke, Marcus. Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi 2 /Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiO X -Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme. 1996. https://publications.rwth-aachen.de/record/61376